深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： PlasmaPro 80 ICP 英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機(jī)，是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-18 在線留言
詳細(xì)摘要： PlasmaPro 80 RIE 牛津等離子體刻蝕機(jī)，是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-17 在線留言
詳細(xì)摘要： RIE 等離子刻蝕機(jī) SI 591，特別適用于采用氟基和氯基氣體的工藝，可以通過預(yù)真空室和電腦控制的等離子工藝系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)。SI 591的特點(diǎn)是占地空間小，高度靈活...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-16 在線留言
詳細(xì)摘要： 牛津原子層刻蝕機(jī)PlasmaPro 100 ALE，它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 牛津離子束刻蝕機(jī)Ionfab 300 IBE，離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-14 在線留言
詳細(xì)摘要： ICP-RIE SI 500 德國Sentech等離子刻蝕機(jī), 等離子刻蝕設(shè)備SI 500使用低離子能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。通過在廣...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-13 在線留言
詳細(xì)摘要： Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級), 具備低成本效益高的特點(diǎn)，并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-12 在線留言
詳細(xì)摘要： 英國Oxford 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 800 RIE，是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RI...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-11 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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